第425章 90纳米制程的突破（1 / 2）

这天，马宇腾的轿车驶入龙岗区雷霆芯片工厂，直抵办公楼前。

此前，芯片公司总经理肖光楠在电话中告知，90纳米制程已取得突破，他特意赶来亲眼看看成果。

轿车停稳，马宇腾推门落车。

肖光楠早已等在门口，见他出现，立刻迎上前去，脸上带着难以掩饰的兴奋。

“马总，欢迎您来雷霆芯片指导工作。”肖光楠说。

“走吧，带我去看看你们的成果。”

马宇腾言语简洁，目光直接投向生产区方向。

前往生产局域的路上，肖光楠边走边汇报：

“马总，上次向您报告90纳米制程试产有突破。这几周，我们持续调试和优化，现在已成功跑通整个工艺流程。尽管良品率还有提升空间，但技术路径已得到充分验证。”

他语气中透着一股自豪，这是团队夜以继日攻关的结晶。

两人抵达洁净室入口，按规定换上无尘服，戴好口罩与手套。

经过风淋室的严格净化，才得以进入生产腹地。

洁净室内，巨大的设备数组排布，机械臂在各自轨道上精确运行，发出轻微的机械声。

空气中，一种微弱而奇特的气味，那是高科技与精密制造混合出的专属气息。

肖光楠引领在前，指着一台内核设备介绍：

“马总，这就是我们90纳米制程的实验线。目前，所有关键设备均已就位，并完成了初步集成与校准。”

马宇腾的目光落在那台庞大的机器上，它被严密的防护罩包裹，占据了洁净室的内核位置。

“这是浸没式光刻机？”马宇腾的声音通过口罩，略显低沉。

他想起数月前，与张如晶商谈时的情景。

“是的。”肖光楠回应。

“它采用193纳米波长的深紫外线光源，通过在镜头与晶圆间填充纯水，有效提升了数值孔径，从而实现更小的曝光尺寸。”

他指向机器侧面的显示屏，“您看，这是光刻机的工作状态参数。我们正在进行曝光测试。”

显示屏上，数据流转，光束路径、曝光强度、晶圆定位精度，各项技术指标跃然眼前。

“这台机器的精度，远超我们此前使用的干式光刻机。”

肖光楠继续说。

“它的分辨率能达到90纳米甚至更低。这是我们实现90纳米制程突破的关键。”

马宇腾走到一台运行中的设备旁，一个机械臂正将一片晶圆送入设备内部。

晶圆表面，在强光下泛着微光。

“整个工艺流程，从晶圆清洗、涂胶、曝光、显影、刻蚀，再到离子注入和金属化，我们都进行了大量的优化和验证。”

肖光楠说，“当前，良品率是最大挑战。实验阶段波动较大，但我们相信，随着工艺的进一步成熟和参数的精细调整，很快就能达到稳定量产的要求。”

马宇腾转头看肖光楠，眼神中带着考量。

“现在技术路径已全部跑通？”

“是的。”肖光楠肯定地回答。

“浸没式光刻是当前半导体先进位程的唯一道路。台积电已用事实证明了这点。我们的技术团队，包括从东芯国际交流过的工程师，都认为这个方向正确无误。”

马宇腾轻点一下头。

他走到一台检测设备前，屏幕上显示着晶圆表面的微观结构图，密密麻麻的电路图案，如同精密的迷宫。

“这些是初步测试结果。您能看到，90纳米的线宽已清淅可见。”

肖光楠指向屏幕，“尽管有些局域仍存在缺陷，但大部分结构都符合设计要求。”

马宇腾凝视屏幕，他明白，每个微小结构都凝聚着无数工程师的心血。

“良品率提升，预计需要多久？”马宇腾问。

“根据经验，至少还需要三到六个月。”肖光楠回答。

“这需要大量实验，持续调整工艺参数，优化设备性能。尤其在刻蚀和清洗环节，对良率影响最大。”

马宇腾没有立即回应，他在脑海中快速梳理着下一步的计划。

三到六个月，这个时间不可或缺。

他深知，技术突破初期，良品率是最大的拦路虎，也是最考验耐心的环节。

“肖总，你们与东芯国际的合作，效果如何？”

马宇腾问，他心知肚明当初派团队“偷师”的目的。

肖光楠脸上浮现出由衷的敬佩。

“非常成功。东芯国际在130纳米制程的量产经验，给了我们极大帮助。他们的工程师团队，在工艺集成和设备调试方面，确实有独到之处。”

肖光楠说，“我们的工程师团队，也从中学到了很多。特别是对成熟制程的理解和把控，提升了一个台阶。”

肖光楠稍作停顿，眼神变得更加坚定。

“马总，我有个提议。”

“既然我们与东芯国际的合作如此顺利，也尝到了合作的甜头。等我们90纳米制程良品率稳定后，可以继续深化合作，往65纳米制程方向推